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拓纳化学推出后整理新染剂
Θ中国服装款式网  科技前沿栏目  添加时间:2011-01-12

  近日,拓纳化学推出EDOLAN® HC 01和TANASSIST® ACE Conc.两款新产品。

  EDOLAN® HC 01可广泛用于纺织品和非织造布涂层和后整理,该产品不含NMP基团,而且粒径远远小于EDOLAN® HC,因此可应用于所有的后整理方式。其性能及应用包括:具有良好平滑性的干爽表面,高日晒和抗紫外线牢度,极佳的耐水解性,可以任意比例溶于水中,适合压吸工艺应用,可与三聚氰胺或异氰酸酯交联以增强性能。

  TANASSIST® ACE Conc.是用在所有腈纶染色工艺中的加速剂,还可以用于腈纶与纤维素纤维、尼龙及羊毛混纺织物中染色,同时该产品适合吸尽法和轧蒸法工艺。在吸尽法中,它可以缩短深颜色染色时间,在染色初始时,起到防止促染作用;当用于腈纶、尼龙或羊毛混纺时,可以防止相邻纤维被阳离子染料沾污。

来源:《服装界》
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